纳米二氧化硅分散液纳米分散机

纳米二氧化硅分散液纳米分散机，纳米二氧化硅分散液制备，纳米二氧化硅吸粉设备，纳米二氧化硅分散设备 

纳米二氧化硅分散液分散机，纳米二氧化硅改性分散机，管线式二氧化硅分散机，连续式二氧化硅分散机，吸粉式纳米二氧化硅分散机，连续式纳米二氧化硅混合分散机

IKN高速分散机采用变频调速，各种规格、运转稳定有力，适合各种粘度；液压、机械两种升降形式，升降旋转自如，适应各种位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作维护简单；生产连续性强，对物料可进行分散和溶解，分散效果好，生产，运转平稳，安装简便。针对不同物料的粘度及处理量有不同的功率及型号。

纳米二氧化硅是目前应用广泛的纳米材料之一，由于其具有度、高刚性、能吸收紫外线等特点，因为纳米二氧化硅的比表面积大，表面能高，凝聚力强，易团聚及纳米复合乳液体系的复杂性，纳米二氧化硅改性有机聚合物存在两个关键问题：一是界面问题，即无机相与有机相的相溶性；二是分散问题，即纳米二氧化硅在聚合物基体中是否均匀分布。

纳米二氧化硅容易团聚，与聚合物产生相分离或发生想反转。

纳米二氧化硅容易团聚，与聚合物产生相分离或发生想反转。

纳米二氧化硅的传统分散方法主要有：     

研磨分散：利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同，将研磨料投入加料辊(后辊)和中辊之间的加料沟，二辊以不同速度内向旋转，部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用，通过加料缝，研磨料被分为两部分，一部分附加在加料辊上回到加料沟，另一部分由中辊带到中辊和前辊之间的刮漆缝，在此又受到更强大的剪切力作用。经过刮漆缝，研磨料又分成两部分，一部分由前辊带到刮处，落入刮漆盘，另一部分再回到加料沟，如此经几次循环，可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低，能耗高，满足不了大生产的需求。

球磨分散：通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用，使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎，同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。

砂磨分散：砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料，纳米粉体的预混合浆通过圆筒时，在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用，使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛，溢流排出，出口筛可挡住砂粒，并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度，但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低，能耗高的缺点。 

IKN分散机采取直立式设计，使物料可以全部进入分散腔，符合工艺要求和流体力学要求，增加其工作效率，***低处出口的出料设计符合生产要求，垂直的压力使得该机器工作更加稳定，同时便于清洁。与物料接触的材料根据生产要求使用SS316钢或更加耐酸碱的哈氏合金，增强其耐磨损和耐腐蚀的特性，杜绝设备与物料产生物理和化学变化而形成污染。采用了三层结构卡匣式的机械密封设计，可以安装，可靠性能高，适合制药工业。根据制药规范要求，对分散腔和出料口进行表面处理，的表面处理质量和无死角设计便于清洗，符合CIP及SIP的清洁标准。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.分散头的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散头的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的

分散是至少两种不相容液体构成热力学不稳定体系，一种液体以球形单位分散在另一种液体中，所以分散越稳定分散效果越好。

IKN分散机的优势：

1、处理量大，适合工业化在线连续生产；

2、粒径分布范围窄，匀度高；

3、省时、、节约能源；

4、精密铸造的整体式机架和经精密动平衡测试的道转子，确保整机运行噪音低、运转平稳；

5、消除批次间生产品质的差异；

6、无死角，物料通过粉碎分散剪切；

7、具有短距离，低扬程输送功能；

8、使用简单，维修方便；

9、可实现自动化设置；

10、     集装式机械密封，物料无泄漏；

11、     单机处理量从1~120m3/h。

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