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随着电子产业的迅速发展，电子产品更新换代快，电子产业子在生产的过程中，工业清洗是重要的工序之一，工业清洗按精细度分为一般清洗、精密清洗、超精密清洗。在精密制造业中。精密制造业对工业清洗的要求比较的高。

按酸碱度
（1）酸性工业清洗剂是指PH值低于7的工业清洗剂，如酸性水基清洗剂WP-20PH值为6.5左右；

（2）中性工业清洗剂是指PH值约等于7的工业清洗剂，如中性清洗剂WHC-1 PH值为7；

（3）碱性工业清洗剂是指PH值大于7的工业清洗剂，如弱碱性水基清洗剂WHC-2 碱性玻璃清洗剂WSG-130 PH值均为9，碱性水基清洗剂WP-751、WHC-5 、碱性光学玻璃清洗剂WSG-100 PH值均为11。

用于工业污垢清洗的化学制剂，一般应满足下述的技术要求。用于不同的清洗目的与清洗对象的清洗剂，对于这些要求可以有所侧重或取舍。

(1)清洗污垢的速度快，溶垢。清洗剂自身对污垢有很强的反应、分散或溶解清除能力，在有限的工期内，可较地除去污垢。

(2)对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内，对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。

(3)清洗所用药剂便宜易得，并立足于国产化；清洗成本低，不造成过多的资源消耗。

(4)清洗剂对生物与环境或低毒，所生成的废气，废液与废渣，应能够被处理到符合国家相关法规的要求。

(5)清洗条件温和，尽量不依赖于附加的强化条件，如对温度、压力、机械能等不需要过高的要求。

(6)清洗过程不在清洗对象表面残留下不溶物，不产生新污溃，不形成新的有害于后续工序的覆盖层，不影响产品的质量。

(7)不产生影响清洗过程及现场卫生的泡沫和异味。

(8)清洗剂不能是易燃、易爆物，或对所需清洗的产品或设备具有某种潜在的安全威胁。

(9) 清洗剂要求尽量做到无磷环保，并减少COD值。