CMD2000纳米无机化工材料研磨分散机设备供应

CMD2000纳米无机化工材料研磨分散机设备供应，

无机化工材料俗称白炭黑。由于是超细纳米级，尺寸范围在1~100nm，因此具有许多特的性质，如具有对抗紫外线的光学性能，能提高其他材料、强度和耐化学性能。用途非常广泛。无机化工材料为无定形白色粉末，、无味、，微结构为球形，呈絮状和网状的准颗粒结构，分子式和结构式为SiO2，不溶于水。

纳米是一个尺度，为10米，纳米材料是指在三维空间中，至少有一维处于纳米尺寸的范围，也即1~100纳米的范围。纳米材料具有小尺寸效应、表面效应和宏观量子随药效应，因而展现出许多特有的性质，在催化、滤光、光吸收、医药、磁介质及新材料等有广泛的应用前景。

纳米无机材料是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,因其粒径很小，比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内特性，有着不可取代的作用。

纳米无机材料广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体，石油化工，脱色剂，消光剂，橡胶补强剂，塑料充填剂，油墨增稠剂，金属软性磨光剂，绝缘绝热填充剂，日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种领域。 纳米二氧化硅的传统研磨方法主要有：IKN胶体磨研磨：利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同，将研磨料投入加料辊(后辊)和中辊之间的加料沟，二辊以不同速度内向旋转，部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用，通过加料缝，研磨料被分为两部分，一部分附加在加料辊上回到加料沟，另一部分由中辊带到中辊和前辊之间的刮漆缝，在此又一次受到更强大的剪切力作用。经过刮漆缝，研磨料又分成两部分，一部分由前辊带到刮处，落入刮漆盘，另一部分再回到加料沟，如此经几次循环，可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低，能耗高，满足不了大生产的需求。球磨分散：通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用，使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎，同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。砂磨分散：砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料，纳米粉体的预混合浆通过圆筒时，在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用，使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛，溢流排出，出口筛可挡住砂粒，并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度，但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低，能耗高的缺点。

 上海依肯CMD2000设备的高剪切分散：速分散机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是***重要的。根据行业特殊要求，上海依肯在CMD2000系列。其剪切速率可以超过100.00 rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强粒经分布更窄。由于能量密度,无需其他辅助分散设备。 CMD2000系列设备与传统设备比较：、节能传统设备需8小时的分散加工过程，CMD设备1小时左右完成，超细分散效果显著，能耗降低；高速、传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带分散功能的转速每分钟1500转以内，只完成宏观分散加工，超细分散能力极为有限；ERS设备的转速每分钟10000～15000转之间，线速度产生的剪切力，瞬间超细分散浆料中的粉体。
多层多向剪切分散

IKN生产型高速研磨分散机转速可达14000rpm，是目前国产生产型研磨分散机的4-5倍，通过的线速度可以使物料在研磨与分散这二级腔体内进行度的研磨分散处理，经广州某大型药企检测，当IKN管线式高速研磨分散机转速开至12000rpm，打一遍可以使物料细度率达到90%，粒径90%小于10微米。

CMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

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