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离子镀膜,一个精密的工艺过程,其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶,偏压电源扮演了关键角色,采用直流电场的精密调控,确保阴极表面的电子被加速,进而轰击气体分子,引发电离现象。这个过程中,电子被电场驱动,形成雪崩效应,直至气体被击穿,形成稳定的电离电流,进而驱动离子加速,撞击靶材,将原子释放并沉积在样品表面,形成所需涂层。

偏压电源,就像荧光灯中的核心组件,它通过高频转换电路,以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现,稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时,通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果,适用于各种涂层需求,从工具保护到装饰美化。

离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。

发黑通常是由于过早氧化造成的。泛黄一般是因为铝源中含有杂质过多,一般纯度应在4 N或5N以上。无论是涂布机的真空度不达标,都要达到10—7倍Pa。(不准确)。涂敷物品的清洗不,表面残留有清洁剂和水。被涂物品表面温度不合理,温度过高或过低。涂层项目的潜在设置不合理。真空扩散泵油应更换。调节蒸发源的温度,不能太低或太高。如果电子束蒸发,电子束的轰击位置也应该调整。

1)所需设备:CCZK-1350-OGS光学电子枪镀膜设备
  2)获得膜层:多层化合物膜层,超硬防水膜层,防指纹膜层,彩色膜层
  3)涂装流程:玻璃产品的前处理清洗----烘箱烘干-----真空镀膜----成品包装
  4)基本配置:
  腔体结构:D1350MM*H1350MM 立式单开门
  腔体材质:304不锈钢
  转动方式:公自转结合,穹顶行星式转架
  蒸发电源:SCR可控硅+大功率蒸发变压器
  蒸发阻源:3组
  电 子 枪:E型电子枪,磁偏转270°
  坩    埚:可旋转多孔位坩埚

1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
  2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
  3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
  4)基本配置:
  1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
  2.腔体材质:碳钢
  3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
  4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
  5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
  6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
  7.传动系统:滚轴传动,变频可调
  8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
  9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
  10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
  11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
  5)需求配套设施:

直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
    此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
    光学监控是高精密镀膜的的监控方式,这是因为它可以更地控制膜层厚度(如果运用得当)。度的改进源于很多因素,但根本的原因是对光学厚度的监控。
    OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统,是采用间接测控,结合汪博士开发的光学监控软件,有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。

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