Futurrex光刻胶NR9-PY
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应用领域 | 型号 | 特性 |
半导体 | NR9-PY | 用于lift-off工艺，高黏附性、，耐高温 |
NR71-PY | 用于lift-off工艺，高温，可作为间隔材料 | |
NR9-P | 高黏附性，适用于电镀和湿法刻蚀 | |
NR71-P | 做掩膜，适用于干法刻蚀，可作为间隔材料 | |
NR21-P | 100um的膜厚，具有良好的分辨率 | |
NR5 | 可作厚膜掩膜，适用于离子刻蚀 | |
PR1 | 耐高温，用于一般图案的正性光刻胶，离子刻蚀，湿法刻蚀 | |
IC1/DC5 | 滤波等电解质材料 | |
PC3 | 平坦化，临时黏附及机械保护 | |
BDC1/PDC1/ZPDC1 | 掺杂工艺 |