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真空度低解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法:更换蒸发舟。 补充: 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了,不好意思。 追问: 不好意思,我没有说你才疏学浅的意思- -#,我意思说就像发黄的原因有:1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3,镀膜时间过长;喷铝过多 4,镀膜电流过高

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离子镀膜,一个精密的工艺过程,其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶,偏压电源扮演了关键角色,采用直流电场的精密调控,确保阴极表面的电子被加速,进而轰击气体分子,引发电离现象。这个过程中,电子被电场驱动,形成雪崩效应,直至气体被击穿,形成稳定的电离电流,进而驱动离子加速,撞击靶材,将原子释放并沉积在样品表面,形成所需涂层。

偏压电源,就像荧光灯中的核心组件,它通过高频转换电路,以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现,稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时,通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果,适用于各种涂层需求,从工具保护到装饰美化。

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抽空时间相同,而真空度偏低,这时候关闭主阀,如真空计指针很快下降,多数情况是真空室漏,应先查出漏点。如真空计指针下降很慢,多数情况是真空机组抽气能力不够,查找真空泵及阀门看哪里出现泄漏,或是扩散泵油污染或氧化;或前级管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,轴封漏油等。漏--分内漏和外漏,较大的漏点可以用火焰法,利用气流能使火焰偏离的原理,先抽上真空,比如用蜡烛或打火机在可疑点附近逐步查寻,会发现火苗向漏点偏移,则可找到漏点。查找小漏和微漏:利用在高真空状态下电离管对某些气体反应敏感来检漏,比如丙酮或乙醇,用医用注射器向可疑的地方喷射丙酮或乙醇,喷到漏点时,电离计的指针会有明显摆动。用这种方法检漏一定要有耐心,一定要等到电离计的示值稳定了--也就是真空机组的抽气能力和漏率平衡了,然后再喷射。好是反复几次,确认漏点。内漏多发生在有水冷套的设备上,查外漏没有发现疑点,但是却有以下现象:机械泵的抽速明显偏低、真空计示值低、机械泵油很快乳化、真空室内的铁基零部件明显锈蚀。具备以上条件基本可以确定有内漏。

离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。

1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。

真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水,来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定,所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。

一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用

真空镀膜加工过程中,真空镀膜机作为主要设备,工作过程中有高频电流过程,电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起,需要冷却设备及时地进行冷却,避免设备部件损坏,影响使用寿命;另外,真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节,并保持相对恒温,反复镀膜会造成镀液温度升高,同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中,根据真空镀膜加工的实际需求,选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。

需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
  2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
  3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
  4)基本配置:
  1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
  2.腔体材质:碳钢
  3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
  4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
  5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
  6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
  7.传动系统:滚轴传动,变频可调
  8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
  9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
  10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
  11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
  5)需求配套设施:

悬浮式高真空卷绕式镀膜机的卷绕控制要求的转矩控制,以般采用直流驱动,但是随着交流驱动技术的飞速发展,现在逐步采用交流永磁同步伺服电机或交流异步电机驱动。丹佛斯FC302系列驱动器具有伺服级的驱动性能,驱动交流异步电机也有实现平稳的转矩控制,为这个行业提供了一种易用的解决方案,用户只需要设置几个简单的参数,就能满足实际生产需求,操作和调试也非常简便。
  一、悬浮式高真空卷绕式镀膜机的传动结构:
  放卷转向为正
  放卷转向为负
  3驱动悬浮式高真空卷绕式镀膜机的典型传动结构,其中:
  M1为冷却辊,直径恒定,由一台FC302驱动,冷辊的速度即为镀膜的线速度。
  M2为收卷辊,中心卷绕,直径逐步变大,由一台FC302驱动,提供收卷张力。
  M3为放卷辊,中心卷绕,直径逐步变小,由一台FC302驱动,提供放卷张力。
  冷却辊和收卷辊的转向是固定的,但是放卷辊由于卷筒卷绕方向不同,工作时有正、反两种转向,对应反、正两种转矩。

  真空镀膜机传动系统的特点:
  1.由于真空室狭小,无法安装张力检测装置,所以收、放卷张力完全要靠收、放卷驱动的电机直接控制。因此收、放卷驱动器都工作于转矩工作模式。对于较轻较薄的材料,收卷还有张力锥度功能。
  2.由于工艺方面的原因,起主传动作用的冷却辊上没有压辊,因此冷却辊只能靠摩擦力带动薄膜;收、放卷张力相差较大时,薄膜很容易在冷却辊上打滑。如何防止打滑是驱动控制方面的难题。

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