美国Futurrex光刻胶PR1
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导体 | NR9-PY | 用于lift-off工艺，高黏附性、，耐高温 |
NR71-PY | 用于lift-off工艺，高温，可作为间隔材料 | |
NR9-P | 高黏附性，适用于电镀和湿法刻蚀 | |
NR71-P | 做掩膜，适用于干法刻蚀，可作为间隔材料 | |
NR21-P | 100um的膜厚，具有良好的分辨率 | |
NR5 | 可作厚膜掩膜，适用于离子刻蚀 | |
PR1 | 耐高温，用于一般图案的正性光刻胶，离子刻蚀，湿法刻蚀 | |