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扫描电镜的焦深比透射电子显微镜大10倍,比光学显微镜大数百倍。由于图像景深大,因此扫描得出的电子像富有立体感,具有三维形态。相较于其他显微镜,能够提供更多的信息。

在材料领域中,扫描电镜技术发挥着极其重要的作用,被广泛应用于各种材料的形态结构、界面状况、损伤机制及材料性能预测等方面的研究。利用扫描电镜可以直接研究晶体缺陷及其产生过程,可以观察金属材料内部原子的集结方式和它们的真实边界,也可以观察在不同条件下边界移动的方式,还可以检查晶体在表面机械加工中引起的损伤和辐射损伤等。

扫描电镜主要用于:观察纳米材料,材料断口的分析,直接观察原始表面,观察厚试样,观察各个区域的细节,大视场低放大倍数观察,从高到低倍的连续观察,观察生物试样,进行动态观察,从形貌获得资料等等。

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