小型磁控溅射仪主要特点/优势：
★ 玻璃钟罩真空腔室，直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；
★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；
★ 真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；
★ 可定制一体化刻蚀掩膜板；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm；
★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 7寸显示器定时调节电流，达到控制功率效果
★ 具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果
★ 配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，样品效果