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单晶硅生长炉原理简介单晶硅生长炉的特点\单晶硅生长炉是通过直拉法生产单晶硅的制造设备。主要由主机、加热电源和计算机控制系统三大部分组成。1、主机部分:机架,双立柱\双层水冷式结构炉体\水冷式阀座\晶体提升及旋转机构\坩埚提升及旋转机构\系统\真空系统及自动炉压检测控制\水冷系统及多种安全保障装置\留有二次加料口2、加热器电源:全水冷电源装置采用专利电源或原装进口IG及超快恢复二极管等功率器件。配以高频变压器,构成新一代高频开关电源。采用移相全桥软开关(ZVS)及CPU控制技术,提高了电能转换效率,不需要功率因数补偿装置。3、计算机控制系统:采用PLC和上位工业平板电脑PC机,配备大屏幕触摸式HMI人机界面、高像素CCD测径 ADC系统和具有知识产权的“全自动Cz法晶体生长SCADA监控系统”,可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。
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大直径硅单晶的制备与数值分析\大直径硅单晶是微电子工业的基础材料,广泛应用于集成电路备件和硅片制造领域,是现今信息社会的基石。根据半导体设备材料产业协会(SEMI)的报告,大直径硅单晶的需求依然旺盛,450mm硅单晶要继续开发研究。当前主流集成电路设备用部件急需400mm硅单晶并提出低成本的要求,开发400mm硅单晶和研究晶体制备的工艺过程,无疑具有重要的理论意义和现实需求。同时,开发下一代450mm集成电路用硅晶体、研究外加磁场对改善晶体质量的作用,对于我国未来制造450mm硅片具有重要的战略意义。分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,用于熔化硅料的外部化料器7,所述外部化料器7的和加料坩埚62相连通,所述外部化料器7的底端和主炉室坩埚21相连通,以便将硅料加加料坩埚62后,硅料漏外部化料器7后被外部化料器7熔化,被熔化后的硅料流主炉室坩埚21内。具体地,外部加料器6和外部化料器7之间设置有旋阀64,以便通过旋阀64控制外部加料器6和外部化料器7之间是否连通,所述外部化料器包括装料器71、化料器坩埚72和用于给化料器坩埚72加热以便硅料熔化的热场73,所述装料器71和加料坩埚62相连通,所述化料器坩埚72和装料器71相连通,

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