天琪回收研磨用过氧化锆珠,汨罗氧化锆珠回收价格实惠

稳定性氧化锆
外　　观： 白色粉末
性　　质： 、无味，化学性质稳定，热导率低，耐热冲击性好。
用　　途： 适用于制造各类机械部件、切削工具、、结构陶瓷、电子陶瓷、生物陶瓷、耐火材料、光通讯器件、氧传感器、固体氧燃料电池等。

深圳市华宇金属材料有限公司位于深圳市的中部工业发达区龙华。公司产品延续深圳市新兴金属科技有限公司，创建于2005年，向PCB电镀、化工厂家、化工设备，真空离子镀膜、吸气剂、铬锆铜合金、磁性材料，铝锆中间合金，等离子切割等领域的厂家供应有色金属的钛，锆，铪，铌，钽等的原材料及产品：
1）金属钛、结晶钛、钛板，钛丝、钛棒、钛卷带、钛箔、钛篮、钛包铜、钛管、钛冷却管、钛螺丝等。
2）金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。
公司和内地、台湾、韩国、泰国的许多企业建立了长期的合作关系。公司秉诚以诚信为本、质量、用户至上的经营理念，坚持“诚实守信，精益求精”的精神宗旨，竭诚为广大厂商提供的产品和服务，确保公司与客户的持续发展。

金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射

磁控溅射原理：锆靶在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

主要应用
编辑
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
分类
根据形状可分为方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
锆板，锆圆靶，锆管靶，锆靶，钛靶，铬靶

金属锆靶材，金属铪靶，金属钛靶材
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。

名　　称：锆管
规　　格：Φ8.0—89.0（外直径）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（长）mm
状　　态：退火
主要性能： 抗拉强度HB>379Mpa 导热率=0.040Cal/cm2 （可以弯成需要的形状）
应用领域：油箱盘管、壳管热交换器、热虹吸管、蒸发器、卡口加热器和人造丝丝囊、管壳式换热器,列管式换热器,加热管,管式预热器、化工设备反应釜盘管等。
例如：在蒸气压力为239000Pa，温度为373K，管中流体含5%硫酸、3%、6%硫酸钠的条件下，用锆盘管代替铅盘等，使用寿命在10年以上。

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

名　　称：锆管
规　　格：Φ8.0—89.0（外直径）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（长）mm
状　　态：退火
主要性能： 抗拉强度HB>379Mpa 导热率=0.040Cal/cm2 （可以弯成需要的形状）
应用领域：油箱盘管、壳管热交换器、热虹吸管、蒸发器、卡口加热器和人造丝丝囊、管壳式换热器,列管式换热器,加热管,管式预热器、化工设备反应釜盘管等。
例如：在蒸气压力为239000Pa，温度为373K，管中流体含5%硫酸、3%、6%硫酸钠的条件下，用锆盘管代替铅盘等，使用寿命在10年以上。

可根据用户需要制作。
锆盘管换热器:
规格；标准规格，功率有1.5KW-50KW,
形态；根据加热功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有过热保护装置。
用途；适用于钛无法胜任的酸、碱介质中（氢氟酸除外）。
在聚合物的生产中，锆的应用是代替石墨作热交换器。锆热交换器的成本虽比石墨约高4倍，比钛约高 2倍，但它足以弥补成本费。

我们曾在多种农药设备上进行过工业锆的应用研究，如在农药反应罐中进行了锆的实际应用与挂片试验。农药水解反应的条件为：20%硫酸+甲萘胺；温度220-250℃；15个大气压（1520kPa)，一个流程时间为7h，在此条件下设备腐蚀严重，1mm厚普通钢板，反应后即腐蚀穿孔。原采用罐内搪12- 14mm厚的铅层为防腐层，则易污染环境，铅的抗腐蚀也较差，一个搪铅反应罐，仅能使用50-60批料即穿孔漏液。锆挂片试验条件为：生产介质20%硫酸+甲萘胺；生产200-250℃；压力14-15个大气（1419- 1520kPa)。结果表明，随时间增加，锆母材与焊缝区氧含量稍有增加，但增加速度较缓，对锆的力学性能未引起恶化。而氢含量却在这种介质腐蚀中逐渐下降，可减少脆性，对锆有利，年腐蚀率仅为 0.024-0.04mm/a。