真空热蒸发镀膜机小型离子溅射仪

小型离子溅射仪 郑州 科探KT-Z1650PVD在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。
主要特点/优势：
★ 玻璃钟罩真空腔室，直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；
★ 复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥140L/S）；
★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；
★ 真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；
★ 可定制一体化刻蚀掩膜板；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距≥40-105mm；
★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 7寸显示器定时调节电流，达到控制功率效果