浙江海宁直拉式单晶炉回收分子泵回收联系电话
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原理简介,把高纯度的多晶硅原料放入高纯石英坩埚,通过石墨加热器产生的高温将其熔化;然后,对熔化的硅液稍做降温,使之产生一定的过冷度,再用一根固定在籽晶轴上的硅单晶体(称作籽晶)插入熔体表面,待籽晶与熔体熔和后,慢慢向上拉籽晶,晶体便会在籽晶下端生长;接着,控制籽晶生长出一段长为100mm 左右、直径为3~5mm的细颈,用于消除高温溶液对籽晶的强烈热冲击而产生的原子排列的位错,这个过程是引晶;随后,放大晶体直径到工艺要求的大小,一般为75~300mm,这个过程称为放肩;接着,突然提高拉速进行转肩操作,使肩部近似直角;然后,进入等径工艺,通过控制热场温度和晶体提升速度,生长出一定直径规格大小的单晶柱体;后,待大部分硅溶液都已经完成结晶时,再将晶体逐渐缩小而形成一个尾形锥体,称为收尾工艺。这样一个单晶拉制过程基本完成,进行一定的保温冷却后可以取出。
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电气特点(1)本系统采用PLC,工业彩色触摸屏,因此系统结构简单,具有用电省, 发热小的特点。系统可靠性很高,不会死机。同时触摸屏和PLC间工作,连接仅仅使用1根通讯线即可。(2) 控制软件、系统能按照工艺员写入的工艺文件,进行半自动拉晶,可以在显示器上修改,立即生效,操作方便。自动工艺可以单步执行也可以连续自动流程。在温度闭环上增加功率限制,信号故障判断诊断功能,可以排除观察孔污染,信号被干扰,加热电源故障,加热器短路,加热器电阻突变,人工输入失误等错误。(3) 工作站监控系统、本系统还配置有工作站监控系统,用一台PC机可同时监控8台单晶炉,采用RS422高速通讯,光电隔离,可靠性高。分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,单晶炉真空系统的除尘技术/单晶炉是单晶体生长设备。单晶体生长要求在真空和惰性气体中进行。真空装置应能保炉体内热真空度达5×1024mm 柱以上。如果使用惰性气体作保护气氛,炉体上、下都设有进出气的气口。生长单晶体时,抽真空及真空装置注入惰性气体后都需配备除尘装置。西安理工大学工厂生产的混合式除尘器较好地解决了这一问题。本厂单晶炉系列:TDR262A (B)、TDR280、TDR270A 等多种炉型近百台产品都使用这种除尘器。实践明,它的主要优点是除尘,能适应不同抽气阶段真空度的要求,容尘量大。其具体结构见图2、图3。该除尘器综合运用离心力、惯性碰撞、接触阻留、扩散这几种除尘机理。