中国有色金属产品质量监督检验中心纯度鉴定,宣城高纯氧化铝杂质分析纯度鉴定机构

铜互连的阻挡层用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。显示器用，平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场。亦将带动ITO靶材的技术与市场需求，如今的iTO靶材有两种．一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结。一种是采用铟锡合金靶材。铟锡合金靶材可以采用直流反应溅射制造ITO薄膜，但是靶表面会氧化而影响溅射率，并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取种方法生产ITO靶材，利用L}IRF反应溅射镀膜．它具有沉积速度快．且能控制膜厚。

陶瓷靶材，ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶。三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽。五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶。氮化硅靶，氮化硼靶。氮化钛靶，碳化硅靶。铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等，合金靶材。铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。

钼舟，钨舟坩埚：Al2O3在10-4Torr蒸发温度：170℃薄膜的机械和化学性质：有毒，损害真空系统；中文名称：硒。英文名称：Selenium，元素符号Se，元素周期表中原子序数34，VIA族非金属元素。密度为4809g/cm3，熔点221℃，沸点685℃，硒是一种有灰色单质金属光泽的固体。性脆，有毒。能导电，且其导电性随光照强度急剧变化，硒是人体必需的微量矿物质营养素，但摄入过量又会对人体产生危害，硒在地壳中的含量仅为005ppm。且分布分散。年供应量有限。硒的用途非常广泛，涉及电子、玻璃、冶金、化工、医疗保健、农业等领域硒粒。