光刻胶NR9-6000PY-光刻胶
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| 负性抗蚀剂 - 蚀刻掩蔽 | |
| RIE/离子铣削高温抗蚀剂电阻器NR7-250PNR7-1000PNR7-1500PNR7-3000PNR7-6000PNR5-8000厚度0.2µm - 0.6µm0.7µm - 2.1µm1.1µm - 3.1µm2.1µm - 6.3µm5.0µm - 12.2µm5.8µm - 100µm耐温性 = 150°C。在某些条件下，Futurrex NR5 和 NR7 光刻胶在 RIE 中的选择性比商用正性光刻胶高出 25-33%。在加工温度 < 120°C 时，NR5 和 NR7 系列光刻胶可在 25°C 下剥离。 | 湿法蚀刻增强附着力电阻NR9-250PNR9-1000PNR9-1500PNR9-3000PNR9-6000PNR9-8000厚度0.2µm - 0.6µm0.7µm - 2.1µm1.1µm - 3.1µm2.1µm - 6.3µm5.0µm - 12.2µm6.0µm - 100.0µm耐温性 = 100°C。NR9系列光刻胶具有增强的附着力，在 25°C 时易于剥离。 |
应用
在 RIE 处理和湿法蚀刻中替代正性光刻胶
特性
厚度范围：<0.1 - 120.0 µm
对波长短于 380nm 的敏感度
特征
对表面拓扑的线宽控制
直侧壁，适合任何薄膜厚度
一次旋涂即可涂出 100 µm 厚的薄膜
由于采用 150°C 软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）
的感光速度，可提高曝光量
有利于提高 RIE 的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
无需使用粘合促进剂