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电镀电源经历了四个发展阶段:
  (1) 直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大.已经被淘汰。
  (2) 硅整流阶段是直流发电机的换代产品,技术十分成熟,但效率低,体积大,控制不方便。目前,仍有许多企业使用这种电镀电源。
  (3) 可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源,具有、体积小、调控方便等特点。随着核心器件——可控硅技术的成熟与发展.该电源技术日趋成熟,已获得广泛应用。
(4) 晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今为的电镀电源,它的出现是电镀电源的一次革命。这种电源具有体积小、、性能、纹波系数稳定.而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向,现已开始在企业中使用了。

化学镀是一种自催化还原工艺。当镀液中有细小固体微粒时,则成为催化还原中心,镀液中的本含量就不高的主盐金属离子,不是在工件上而是在这些微粒上很快还原而消耗掉,镀液会很快失效而报废。只有及时通过过滤去除这些微粒,才能或延长化学镀液的使用寿命。

电镀电源电镀电源是电镀生产过程中重要的辅助设备。国内大量应用的还是硅整流器和可控硅整流器,分为调压器调压、磁饱和电抗器调压及可控硅凋压。电镀用硅整流器和可控硅整流器都是低压大电流,一般为12V(镀铬选用18V),电流从100A至20000A都有可控硅调压的硅整流器只有在负荷较高时渡形良好稳流稳压、稳定电流密度的电镀电源也正在推广应用。

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