吗丁啉混悬液小型均质机，10微米以下混悬液均质机

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目前国内常用的剪切式均质机线速度多为10～25 m/ s。实践证明其均质效果并不理想。

IKN高剪切均质机指线速度达到40～66 m/ s的剪切式均质机,其主要工作部件为多级相互啮合的定转子,每级定转子又有数层齿圈。

多潘立酮混悬液，也叫吗丁啉，为白色混悬液，味甜，用于消化不良、腹胀、嗳气、恶心、呕吐、腹部胀痛。对于混悬液药剂的制备guo家有严格的规定:药物本身的化学性质应稳定，在使用或贮存期间含量应符合要求；混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象，轻摇后应迅速均匀分散；混悬剂应有一定的粘度要求。

混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国nei设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速改进型胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通均质研磨设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)混悬液胶体磨CMSD2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。

上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

目前市面上几种研磨粉碎设备主要有：

砂磨机：锆珠易损，引入杂质，更换维修成本高；

国内胶体磨/研磨机/分散机：转速普遍2930rpm，不超过3000rpm，作用力弱，粉碎研磨细度不够，浆料稳定性差；

德国IKN研磨均质机（改进型胶体磨/改进型均质机）：转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更强，粒径更小，分布范围更窄，浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的，一致的和可重复的粒度分布。

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吗丁啉混悬液超微均质机，小粒径混悬液均质机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺：CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、、效果好。

对于均质设备选型上海依肯工程师建议根据以下几点因素选型较为合适：

1、被均质物料的特性

2、被均质物料的产量

3、被均质物料的工艺细度要求

4、被均质物料的成品价值

5、均质成本

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