世界厂家高科技等离子设备， 全自动清洗机Plasma，价格优惠

1.几乎所有种类的有机材料都可以被等离子蚀刻。蚀刻效果是基于相同的化学反应的清洗效果。通过正确选择气体的组成和比例，采用适当的激发频率，调整不同的功率、真空度、处理时间等可以达到佳的处理效果。
2.除了氧气可使用其它气体增加蚀刻率，大多数情况下可以采用四氟化碳。在此过程中四氟化碳产生的自由基超过氧气等离子体的活性。然而四氟化碳的比例到达一定的临界点，活性会逐渐下降，同时它们的反应气体配上适当的过滤器来控制。
对于蚀刻量较大的工件可以采取湿式化学蚀刻和低温等离子体干式蚀刻相结合的方法，使得处理效果更加。

在工业生产过程中对电子元件、光学部件、机械零件、高分子材料 等表面的超纯度清洗，以消除极微小污垢颗粒，常常是一道非常关 键的工艺。
 
传统的清洗方式大多为湿法清洗，随着现代高科技的不断发展这种 清洗方法已暴露出其致命的缺陷，即清洗干燥以后的清洗剂残余和 微小颗粒会附着在表面，已经不能满足现代高科技工艺的要求。
 
低温等离子清洗工艺实际上是把污染物从被处理工件上移开，并在等离子体反应的冲击下被带走，处理循环一般只需要几分钟就能很好除去表面的脏污，真正做到无残留，。
 
由于气体对于微小缝隙的渗透力远远大于液体，对于复杂形态的物体同样可以得到清洗的效果。
 
等离子清洗过程中起决定性的因素是无论常压状态，还是真空状态，即使在温室的条件下，等离子体都会和有机污染物产生反应，分解成水和二氧化碳等分子，并具有良好的挥发性。