聚马来酸酐液体,酸性

阻垢剂是一些有机合成聚合物（比如聚丙烯酸、羧酸、聚马来酸、有机金属磷酸盐、聚膦酸盐、膦酸盐、阴离子聚合物等），这些聚合物的分子量在2000－10000道尔顿不等。反渗透系统阻垢剂技术由冷却循环水和锅炉用水化学演变而来。对为数众多各式各样的阻垢剂，在不同的应用场合和所采用的有机化合物所取得的效果和效率差别很大。

采用聚丙烯酸类阻垢剂时要特别小心，在铁含量较高时可能会引起膜污染，这种污染会增加膜的操作压力，有效清除这类污染要进行酸洗。

聚马来酸酐HPMA反渗透中使用的一种普通阻垢剂成分，但随着阻垢剂的出现，用量已经大大减少了。SHMP的使用有一些限制。每2－3天要配制一次溶液，因为暴露在空气中会水解，发生水解后不仅会降低阻垢效果，而且还会造成磷酸钙结垢的可能性。使用HPMA可减少碳酸钙结垢

阻垢剂阻垢机理的匹配模型的研究较少，且已有 的研究对象主要是氨基甲叉三膦酸(ATMP，分子质量299)、羟基乙叉二膦酸(HEDP，分子质量206)等含 膦基团的简单分子，只需采用密度泛函理论即可较方便地得到这些分子的佳构型和相关参数，如Zahid 等研究了HEDP、ATMP 和PBTCA 等几种有机膦系小分子阻垢剂的结构与阻Ca3(PO4)2 的关系，提出 了匹配模型理论，而对于T-225(分子中含有羧酸基团、酯基基团)、AA-AMPS(分子中含羧酸基团、磺酸 基团和酰胺基团)、POCA(分子中含有膦酰基基团、羧酸基团、磺酸基团和酰胺基团)等相对分子质量在2000 以上、分子中含有多种官能团的聚合物阻垢分散剂，其模型构建较为复杂，因此关于它们的微观分 子结构与阻垢分散性能之间的关系研究未见报道

采用静态阻垢法评估了几种聚合物对碳酸钙垢和硫酸钙垢的阻垢性能，结果分别见图1 和图2。 由实验结果可以看出，几种聚合物对CaCO3 和CaSO4垢均具有较好的抑制作用；随加药浓度的增大， 聚合物对两种无机垢的抑制作用增强。对于阻CaCO3垢，HPMA 的抑制能力较强，其次是PAA，T-225 的性能与PAA相当，POCA与AA-AMPS 共聚物性能相当，较PAA 差。对于阻CaSO4 垢，POCA 和AA-AMPS在低浓度时就表现出良好的抑制作用，性能好，其次是T-225，当加药量大于10mg/L后HPMA 的性能与T-225相当，PAA的性能相对比HPMA 差。该实验结果与循环水系统现场实际使用效 果是一致的。

HPMA工业生产中大量的循环冷却水要被反复使用,随着溶液中离子浓度的提高,水的结垢倾向增大。CaCO_3垢的沉积是工业中具挑战性的问题,因为结垢现象会引起传热效率降低、管路堵塞和设备损坏等。使用阻垢剂是应对这一问题常用的方法。采用CaCO_3沉积法考察了三种阻垢剂的静态阻垢性能,利用X射线衍射仪(XRD)对CaCO_3垢样进行晶型分析、采用扫描电镜(SEM)观察固体形貌,傅里叶红外光谱仪(FT-IR)对垢样表征。结果表明,阻垢率随着阻垢剂的投加量增大而提高,在较高浓度下三种阻垢剂都表现出了“阈值效应”;阻垢HPMA、AA/MAHPMA,其中PHPMA在80℃恒温10h下阻垢率可达95.9%;加入阻垢剂以后,CaCO_3的微观形貌发生显著变化

HPMA聚马来酸酐在敞开式循环冷却水系统运行过程中,结垢、腐蚀和微生物滋生是其面临的主要问题,这些问题会使换热效率降低,继而引发系统堵塞,不利于安全生产。关于系统结垢的处理,当前的方法主要是以化学药剂为主,但这种方法会造成二次污染。因此,需要发展一种、及低成本的阻垢技术。本论文采用电解阻垢法对敞开式循环冷却水进行处理,利用水及成垢离子在低压电场作用下的电化学特性,降低水质硬度,达到阻垢的目的