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微乳液法制备二氧化硅微球高速乳化机

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微乳液法制备二氧化硅微球高速乳化机,二氧化硅高速乳化机,液相法 制备二氧化硅微球 高速乳化机,为求高速乳化机   ,凝胶微球乳化机  是 、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,#到物料chao细粉碎及乳化的效果。

目前,世界上能够生产高纯球形二氧化硅的国家主要为日本和美国,国内尚属空白,由于该技术产品关系科技发展,涉及国家信息产业的自主发展与信息安全,国外技术高度保密,因此,迫切需要自主研发制备高纯超细球形二氧化硅的技术。

现阶段,球形二氧化硅的制备方法分为物理法和化学法两种,其中:物理法主要包括超细粉碎机械和燃烧法,化学法包括气相法和液相法。液相法中的微乳液法作为近几年来发展起来新的纳米材料制备方法,是采用在乳化剂作用下形成的分散均匀且尺寸小的油水混合体系,使反应在多个小环境下进行,从而获得粒径可控、分散性好的产品。

步骤:

S1制备微乳液:先将表面活性剂、油相物、水按一定比例混合,并搅拌均匀,形成微乳液;

S2制备微乳体系:在所述微乳液中按一定比例加入醇类物质,混合,并搅拌均匀,形成微乳体系;

S3水解和醇解反应:取原料氯硅烷加入到形成的所述微乳体系中,使氯硅烷在微乳体系中发生水解和醇解反应;

S4中间产物的进一步水解反应:醇解反应得到的中间产物进一步进行水解反应,获得二氧化硅生成物;

S5分离、洗涤、干燥:待反应结束后,对生成物经过分离、洗涤、干燥,得到高纯球形二氧化硅。



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磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。 

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

er级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,te要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征dou改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出#终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。


研磨分散机应用领域:

化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛bai粉,炭黑,纤维素,石墨烯,碳纳米管,富勒烯,电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。         

 食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱,食用菌丝,蛋bai粉 ,豆粕酶解等日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
医药工业:各型糖浆、营养液、、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮,口服混悬液,注射混悬液 ,胶囊,微球 动物组织破壁盐酸头孢噻呋,liu suan头孢喹肟 等。
建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。新能源材料:石墨烯、 碳纳米管 、碳纤维、 锂电池浆料、电池隔膜 润滑油等等

 

胶体磨磨头CM2000胶体磨

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无jun级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐mo处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7,200

41

30

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和#终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,bi须提供准确的参数,以便选型和定制。

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下一条:厦门高速分散机规格型号
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主营:纳米高速乳化机,纳米高速分散机,高速研磨分散机,高速湿法粉碎机
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二氧化硅微球信息

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