除氟滤料CHAP性能,饮用水设备

高氟水经填装活性磷灰石除氟滤料的设备处理后，出水指标符合卫生部颁布的国家《生活饮用水卫生标准》GB5749-2006的要求。
活性磷灰石除氟滤料CHAP应用范围：
饮用水降氟，是目前有效、经济、安全的新型降氟技术。
用于电镀、制药、电子、钢铁、食品、电力、纺织等行业的污水处理及中水回用；
泳池、鱼池、景观水及河渠的净化；
反渗透、超滤、软化、混床，EDI的预处理；
洗浴热水、地下温泉及冷凝热水的净化处理；
家庭、公寓、别墅、学校、酒店、餐厅水质净化；
自来水厂、污水处理厂，污废水处理等涉水降氟领域。

活性磷灰石除氟滤料CHAP使用氢氧化钠再生方法：
配置1-3%的再生剂溶液，体积相当于除氟滤料的0.5-1倍（即体积质量比我0.5-1.1）；例如：一吨的滤料使用500L-1000L 1-3%NaOH。
关闭除氟罐的进水阀，用用原水反洗5-10分钟。
用再生药液以速度为2-4米/小时，缓缓打入约30-35%的再生液，然后静止浸泡4小时，再用再生药液以流速为2-4
米/小时缓缓打入约30%的再生液，继续浸泡4小时，余液继续重复上述过程，也可以一次性全部打入再生液浸泡滤料，整个再生约10-12小时完成。
再生结束后用原水快速冲洗至PH值于原水相同为止，即可进行下一周期的生产。
排除再生液需时可以加少量盐酸中和。
活性磷灰石除氟滤料CHAP再生液废水处理：
方案一：
再生后的废液排出后，加入少量生石灰使废液中氟离子生成氟化钙后沉淀析出，并用少量酸将PH调节至小于9后排放即可。
方案二：
将原水于废液混合稀释后调节PH排放。

羟基磷灰石(hap)作为饮用水除氟滤料正在逐渐被人们所认识和接受，其传统的再生方法主要是用0.25％～1％的naoh溶液作为再生剂，该法再生效率低，仅为15％～30％，影响了羟基磷灰石除氟剂的推广和应用结果表明，用表面涂层再生法对饱和的羟基磷灰石进行再生处理，其再生效率可达46％～64％。但该法需要将已被氟离子饱和的hap放回到由一定浓度ca2+和h2po3-组成的再生液中，并调整溶液ph值为3左右，在其表面重新反应生成一层新的羟基磷灰石。这种操作相对复杂，反应条件不易控制，而且生成的新羟基磷灰石在饱和滤料表面附着力较差，易脱落，从而容易造成再生效率难以。

由于除氟滤料的使用寿命都较短，在除氟滤料不能再生时，需要整体更换滤料，更换过程非常麻烦，导致很多除氟设备不能长期使用。



技术实现要素：

技术问题：本发明的目的是要克服现有技术中的不足之处，提供一种羟基磷灰石除氟滤料的再生方法，通过原位再生法，实现羟基磷灰石滤料再生率，克服了传统的羟基磷灰石除氟滤料再生效率低的缺点，滤料无需更换、操作方法简单易行，设备长期使用。

本发明的一种羟基磷灰石除氟滤料的再生方法，包括如下步骤：

a、脱氟处理：将已被氟离子饱和的羟基磷灰石粒状滤料在氢氧化钠溶液中静置浸泡一段时间t1，将吸附在羟基磷灰石滤料表层的氟离子洗脱下来，将溶液排掉并清洗至中性；

b、原位再生处理：将脱氟处理后的羟基磷灰石滤料在磷酸溶液中静置浸泡一段时间t2，将溶液排掉，将经磷酸溶液处理后的羟基磷灰石滤料放入氢氧化钠溶液中静置浸泡一段时间t3，使羟基磷灰石滤料表层发生化学反应重新生成羟基磷灰石，恢复羟基磷灰石的除氟能力，再将溶液排掉并清洗至中性。

所述步骤a中氢氧化钠溶液的质量浓度为0.5～1.0％。

所述步骤b中磷酸溶液的质量浓度为3.0～15％。

所述步骤b中氢氧化钠溶液的质量浓度为0.5～2.0％。

所述步骤a中羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t1为12～24h，浸泡后将滤料清洗至中性。

所述步骤b中羟基磷灰石滤料与磷酸溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t2为12～24h，浸泡后将溶液排掉。

所述步骤b中羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t3为12～24h，浸泡后将滤料清洗至中性。

所述步骤a中已被氟离子饱和的羟基磷灰石粒状滤料的粒径为0.5～2.0mm。

有益效果：由于采用了上述技术方案，本发明通过对已被氟离子饱和的羟基磷灰石粒状滤料的脱氟处理和原位再生处理，实现羟基磷灰石滤料的再生率。经过脱氟处理，将吸附在滤料表层的氟离子洗脱下来，然后再进行原位再生处理，从而使得滤料表层通过化学反应再次生成羟基磷灰石，除氟能力得以恢复。克服了传统的羟基磷灰石除氟滤料再生效率低的缺点，滤料无需更换、操作方法简单易行，设备长期使用。其主要优点有：

1、除氟滤料再生：单次再生效率大于60％～80％；

2、再生方法不受反应条件限制，操作简单易行，再生效率能。

具体实施方式

本发明的一种羟基磷灰石除氟滤料的再生方法：

a、脱氟处理：将已被氟离子饱和的羟基磷灰石粒状滤料在氢氧化钠溶液中静置浸泡一段时间t1，将吸附在羟基磷灰石滤料表层的氟离子洗脱下来，将溶液排掉并清洗至中性；所述氢氧化钠溶液的质量浓度为0.5～1.0％。所述羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t1为12～24h，浸泡后将滤料清洗至中性。所述已被氟离子饱和的羟基磷灰石粒状滤料的粒径为0.5～2.0mm。

b、原位再生处理：将脱氟处理后的羟基磷灰石滤料在磷酸溶液中静置浸泡一段时间t2，将溶液排掉，将经磷酸溶液处理后的羟基磷灰石滤料放入氢氧化钠溶液中静置浸泡一段时间t3，使羟基磷灰石滤料表层发生化学反应重新生成羟基磷灰石，恢复羟基磷灰石的除氟能力，再将溶液排掉并清洗至中性。所述磷酸溶液的质量浓度为3.0～15％。所述氢氧化钠溶液的质量浓度为0.5～2.0％。所述羟基磷灰石滤料与磷酸溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t2为12～24h，浸泡后将溶液排掉。所述羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5～1:1，静置浸泡的一段时间t3为12～24h，浸泡后将滤料清洗至中性。

实施例1、

a、将粒径为0.5～0.8mm的饱和的羟基磷灰石滤料中加入质量浓度为0.5％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:1，静置浸泡24h后，将滤料清洗至中性；

b、然后加入质量浓度为3％的磷酸溶液，羟基磷灰石滤料与磷酸溶液的质量比为1:1，静置浸泡24h后，将残余液体排掉；

c、后加入质量浓度为0.5％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:1，静置浸泡24h后，将滤料清洗至中性。

实施例2、

a、将粒径为1.6～2mm的饱和的羟基磷灰石滤料中加入质量浓度为1％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5，静置浸泡12h后，将滤料清洗至中性；

b、然后加入质量浓度为15％的磷酸溶液，羟基磷灰石滤料与磷酸溶液的质量比为1:0.5，静置浸泡12h后，将残余液体排掉；

c、后加入质量浓度为2％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.5，静置浸泡12h后，将滤料清洗至中性。

实施例3、

a、将粒径为1～1.2mm的饱和的羟基磷灰石滤料中加入质量浓度为0.8％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料的质量与氢氧化钠溶液的体积比为1:0.8，静置浸泡18h后，将滤料清洗至中性；

b、然后加入质量浓度为10％的磷酸溶液，羟基磷灰石滤料与磷酸溶液的质量比为1:0.8，静置浸泡18h后，将残余液体排掉；

c、后加入质量浓度为1％的氢氧化钠溶液，羟基磷灰石滤料与氢氧化钠溶液的质量比为1:0.6，静置浸泡18h后，将滤料清洗至中性。