美国MICRO-CHEMSU-820022015光刻胶
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MicroChem负性环氧树脂抗蚀剂
MicroChem环氧树脂抗蚀剂由化学放大的环氧基负性抗蚀剂组成,它们具有高度功能性,光学透明性和可接近UV(365nm)辐射的可成像。固化膜或微结构是对溶剂非常抵扣的,酸和碱以及具有的热稳定性和机械稳定性,使其非常适合制造性结构,如像素墙,流体通道和喷嘴,微阵列和间隔物。
SU-8 2000 Serise
SU-8 2000化学放大,i线抗蚀剂非常适合制造性器件结构。 这些负色调,环氧基抗蚀剂表现出的耐化学性和低的杨氏模量,使其成为制造微/纳米结构的理想选择,如悬臂,膜和微通道。
材料的使用: · PDMS模具制造 · 结构部件,如微流体通道,显示像素阵列,墙壁和介电层 · 干蚀刻掩膜 · 快速成型 | 材料属性: · 旋涂薄膜从< 1μm>75μM · 耐高温和耐化学性好 · 光学透明 · 兼容i-Line成像设备 |
SU-8 3000已被配制用于改进的粘合性和降低的涂层应力。它被用于需要高结合强度和改进的微结构制造柔性的地方。 结果,大大提高了与基板的粘合性。
材料使用: · 波导 · 微流体 · 邮票 | 材料属性: · 改善附着力 · 降低涂层应力 · 垂直侧壁 · 单层涂膜厚度大于100μm |