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一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,在半导体材料中用量和用途广的是半导体硅。当今 95 %以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用低速提拉、生长过程均速提拉的办法制成的。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。当今 ,随着 IT产业的迅速发展 ,单晶硅生产市场需求剧,研制一种满足工艺要求、低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，整个炉内的一氧化硅与的混合气体(包 括坩埚支持器下方的混合气体)能通畅地排出炉外，整个炉内不存在排气 不畅的地方，即不存在排气死角，既有效地防止了一氧化硅气体对加热器 和坩埚支持器等石墨器件的腐蚀，还可使吸附在这些石墨器件上的杂质粉 尘减少30%以上，从而确保了该炉的使用寿命，使所述石墨器件的使用寿 命从原来的90炉次提高11G炉次以上，另外还可对硅晶体的生长过程起 到稳定作用，使平均成品率从原来的65%提高68%以上，并可提高单晶 的内在质量。本发明的气流导向装置的一对通气孔与该炉的 一对排气口相 对设置，缩短了排气管路，利于提高排气效率。