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改进炉甘石洗剂的配制工艺及稳定性,炉甘石洗剂分散法

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改进炉甘石洗剂的配制工艺及稳定性,炉甘石洗剂分散法,使用胶体磨配制炉甘石洗剂,改进后的胶体磨


目的改进炉甘石洗剂的配制工艺,提高炉甘石洗剂的稳定性。方法采用分散法,使用胶体磨配制炉甘石洗剂并与原配制工艺制备的炉甘石洗剂进行对比,通过比较两种工艺制剂的含量、微粒大小、重新分散能力、沉降容积比、临床疗效等,考察炉甘石洗剂的稳定性,判定其改进后的配制工艺是否正确、科学。结果配制工艺改进后的炉甘石洗剂,性状不改变,颗粒分散均匀,质地细腻,不易结块沉降,流动顺畅、易于涂展,无异物感、无刺痛感,质量稳定,疗效更佳。结论配制工艺改进后的胶体磨法,,操作简便,提高了炉甘石洗剂的稳定性、生物利用度以及患者的用药依从性,改进后的炉甘石洗剂的配制工艺是可行的,值得推广。


使用胶体磨配制炉甘石洗剂具有设计紧凑、实用新型,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料理想的加工设备。

它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。

该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的水平。

磨头结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而国nei的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。Ikn设备可以物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一层磨头到另外一层磨头形成研磨效果。


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设备特点:

1)转速14000rpm与其它厂家2900转左右高出约4-5倍:

2)磨头结构更精密并有特设计,使之研磨作用力更大,效果更好。

3)德国进口双端面机械密封拥有特结构和特殊材质高速运转和长使用寿命。

4)CM2000/4中试型胶体磨与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到低。

5)结构特点:分立式、卧式两种规格。卧式直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴,直联电机的转速决定转子转速。

我公司是采用立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。

其主机部份由壳体、定子、转子、调节机构、冷却机构、电机等组成。其主要零件均采用不锈钢制造,耐腐蚀,。使用单位可依不同物料特性,生产效率,不同用途,选用不同规格型号的胶体磨(锥体磨,粉碎机,研磨机),使之达到良好的效果。

上海IKN胶体磨(锥体磨,粉碎机,研磨机)与普通胶体磨的分析:

①转速:

普通设备:目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于设备的内部结构及精密程度决定的)。

IKN:可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM(转速,研磨的力度也是他们的4-5倍,这样研磨的细度更小)。

②三级结构:

虽然都是三级结构

普通设备:沟槽是直线,同级的沟槽深度一样。

IKN:沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅。

③磨头的结构

普通设备:斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大。

IKN: 沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿流道的体积从上往下,从大到小。           

这样形成了本质的区别,我们可以物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在磨头到另外磨头形成研磨效果。

④大线速度(如磨头的相同直径):

普通设备:大约在10-15m/s

IKN:可达到23-40m/s

⑤模块头:

普通设备:只有一种模块头。

IKN:可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。

⑥密封形式

普通设备:单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

IKN:双机械密封,易于清洗,将泄漏降至低,可24小时不停运转

⑦工作腔体方式

普通设备:卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,清洗苦难。

IKN:立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏符合流体流动原理,易于清洗。

⑧产品效果

普通设备:粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。

IKN:间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。

上海IKN新技术,特创意,融化新理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。

使用胶体磨配制炉甘石洗剂结构:三道磨碎区,一层为粗磨碎区,二层为细磨碎区,三层为超微磨碎区。虽然都是三层结构,但是普通设备的设计不同理念不同,形状及齿列的结构。

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炉甘石洗剂的配制工艺信息

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