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单晶炉真空系统的除尘技术/单晶炉是单晶体生长设备。单晶体生长要求在真空和惰性气体中进行。真空装置应能保炉体内热真空度达5×1024mm 柱以上。如果使用惰性气体作保护气氛，炉体上、下都设有进出气的气口。生长单晶体时，抽真空及真空装置注入惰性气体后都需配备除尘装置。西安理工大学工厂生产的混合式除尘器较好地解决了这一问题。本厂单晶炉系列：TDR262A (B)、TDR280、TDR270A 等多种炉型近百台产品都使用这种除尘器。实践明，它的主要优点是除尘，能适应不同抽气阶段真空度的要求，容尘量大。其具体结构见图2、图3。该除尘器综合运用离心力、惯性碰撞、接触阻留、扩散这几种除尘机理。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,在半导体材料中用量和用途广的是半导体硅。当今 95 %以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用低速提拉、生长过程均速提拉的办法制成的。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。当今 ,随着 IT产业的迅速发展 ,单晶硅生产市场需求剧,研制一种满足工艺要求、低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。