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真空均质乳化机是集混合、分散、均质、乳化及吸粉多功能于一体的成套系统,带有电控系统,也可配合外围油、水相罐,真空,加热/冷却系统等使用。是生产药用软膏、膏霜、乳液等的设备。

分散盘带动研磨介质高速运动而产生摩擦和剪切,使物料得到研磨和分散。研磨室采用强制冷却。有卧式砂磨机及立式砂磨机之分,如圆筒形环隙式砂磨机和塔式砂磨机等。一般为湿式研磨。物料在旋转研磨盘作用下与研磨体混合并旋转,经与研磨体之间及与粉碎室各部分之间产生的研磨、剪切而粉碎。有卧式砂磨机及立式砂磨机之分,如圆筒形环隙式砂磨机和塔式砂磨机等。一般为湿式研磨。

研磨介质填充率从40%增加至75%时,运行电流曲线呈上升趋势,反映砂磨机中的研磨介质得到充分搅动,能量需求变化大;填充率在75%-85%,运行电流曲线变化平稳,反映砂磨机中的介质达到一个平衡点,能量需求稳定;填充率大于85%,运行电流曲线变化呈下降趋势,反映砂磨机中的研磨介质过量,研磨介质与分散盘之间有滑动现象,分散盘不能带动所有研磨介质运动,能量需求降低。因此,根据砂磨机的电流变化曲线可知,研磨介质适宜的填充率为80%。[1]

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