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具体实施方式为了使本发明的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，一种连续拉晶单晶炉，它包括括底座1、主炉室2、副炉室3、下驱动装置4和上驱动装置5，所述主炉室2和下驱动装置4均安装在底座1上，所述主炉室2内设置有炉室坩埚21，所述下驱动装置4和主炉室坩埚21相连，以便通过下驱动装置4驱动主炉室坩埚21升降，所述副炉室3和主炉室2相连通，所述上驱动装置5安装在副炉室3的上端，以便通过上驱动装置5驱动拉晶，其特征在于，它还包括：外部加料器6，所述外部加料器6内设置有加料腔61，所述加料腔61内设置有加料坩埚62，所述外部加料器6的盖装有上盖63；蓝宝石长晶炉回收，多晶硅铸锭炉回收，提拉式长晶炉回收，多晶长晶炉回收，卧式长晶炉回收，拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,其中用量和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路 ,生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用提拉的办法制成的。在单晶硅生产过程中 ,对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ,从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 ,再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中 ,要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度 V向上 (下 )运动 ,而且当提拉负载增大引起线速度为零时 ,提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。在实际单晶炉中 ,对提拉控制系统提出的主要技术指标是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范围之内实现无级可调 ,线性精度大于± 2 %

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提拉式单晶炉特点籽晶提拉及旋转部件:实现了籽晶轴较高转速时的系统平稳性；籽晶轴旋转及提拉密封均采用的磁流体密封组件，无泄露，长期使用不需充磁；精密花键轴及各驱动直流伺服电机均为进口件，确保系统具有很高的可靠性。提拉头经过严格的静平衡和动平衡测试，高速旋转下籽晶晃动小于2mm，适应半导体工艺需求。坩埚升降及旋转部件:使用超大铸铁立柱、双滚动直线导航、精密滚珠丝杠以及进口等功能件组合设计，确保坩埚系统在超重低速工况下长期平稳运行。浮动式翻板阀设在主副炉室之间，可在热场维持工艺温度的情况下，取出晶体，更换籽晶和补充加料进行连续拉晶。