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半导体级直拉法的工艺控制\进入21世纪以来,随着新兴产业的科技创新,半导体行业得到了的发展。半导体产业发展迅猛,尤其近几年,大力发展半导体产业,缩短该行业与世界水平的差距。目前虽然有许多新兴材料来替代硅材料,但未来几年可以预见,硅材料由于其成熟的技术品质和稳定的物理化学性质,将会在相当长的一段时间里是主流材料。硅单晶作为主要材料,应用的领域也是相当广泛的。硅单晶是由多晶硅原料经过物理变化,让硅原子按照人为设定的方向进行生长,终形成的。一般会采用直拉法进行制备。晶圆的直径越大,集成电路制造的成本将会越低,因此要求作为材料的硅单晶的直径也要相应的增大。这里面涉及到了一系列问题。这篇论文主要讨论的是通过对热场的设计,工艺的过程控制,减少位错的产生,以及通过化学腐蚀对位错进行检测的相关问题。 蓝宝石长晶炉回收,多晶硅铸锭炉回收,提拉式长晶炉回收,多晶长晶炉回收,卧式长晶炉回收,拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,而边壁的边界层又是主要影响因素。另一机理是高浓度尘流中粉尘颗粒的扩散与凝聚这对矛盾中凝聚成为主要矛盾方面。粉尘颗粒可以彼此凝聚在一起。又可能与实质界面凝聚而吸附在其上面。通过这两个机理,后粉尘从气体中分离出来。 排尘过程排尘过程主要是经分离界面以后已分离出来的粉尘排离排尘口,不同的除尘器排尘的作用力也不同。有些除尘器不需要再加额外动力能利用原捕集分离的外力把粉尘排离除尘器。而另一些除尘器则需要加额外的动力才能把已分离的粉尘排出。 排气过程已弃尘后相对净化的气流从排气口排出的过程称为排气过程。上述基本知识是除尘器、过滤器设计制造的理论基础。下面具体讨论单晶炉领域除尘技术。
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江苏清河单晶炉回收 江苏清河真空泵回收发明内容、本发明的目的是提供一种易于及时排出炉内的混合气体,且可减少热 能及消耗的直拉式单晶生长炉。实现本发明目的的技术方案是提供一种直拉式单晶生长炉,其包括 输入管、与输入管相连通的环形气体分布器;其特征在于经氩 气输入管输入的气压为0. 8xl0a0. 9xl0a,流量为 30L/min。上述技术方案中,还包括设于直拉式单晶生长炉的坩埚支持器下方和 该炉底部的排气口之间的气流导向装置;该气流导向装置为碗形,其包括 设于气流导向装置底部的中轴孔、设于所述中轴孔两侧的 一对电极孔、 以及设于所述中轴孔两侧并与该炉的排气口相对的通气孔;该炉的石墨中 轴穿过所述气流导向装置的中轴孔,该炉的 一对电极柱分别穿过所述电极 孔,该炉的排气口与气流导向装置的各通气孔相连通,气流导向装置的上 端部设于该炉的保温筒与发热体之间。

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