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专利文献CN1205362C公开了 一种直拉硅单晶炉热场的气流控制方 法及装置，其包括在单晶炉晶体生长室内的石墨加热器和保温筒间装有密 封导气装置，使含有一氧化硅的气体的气流经密封导气装置的导气管 及排气口，在真空泵的作用下，排出炉外。密封导气管装置由导气管、底 座、密封环、排气口所组成，安装在石墨加热器和保温筒之间。上述现有技术的不足之处在于单晶炉的坩埚支持器下方的混合气体 不能有效的排出，从而使混合气体中的一氧化硅对加热器和坩埚进行腐蚀， 影响单晶炉的使用寿命。且其向炉内充入时的充气气压在1. 3xi0a 以上，导致其流量较大，故而消耗量大，生产成本较高。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，浮力提拉单晶炉提拉机构特性分析\一、引言 浮力提拉单晶炉(简称FTD)是利用浮力原理设计成的提拉式单晶炉帕,十多年来,用它先后生长成功了多种晶体〔2一5〕。这种炉子容易制造,成本低,易于推广,目前国内已有几个厂家使用它生产泥酸铿单晶。作为一种发明,FTD也受到肯定和重视。可是,FTD在问世以后,却没有进行深入探讨。虽然FTD的设计有过几次变化,但由于没有掌握设计的则,致使FTD存在不同程度的提拉不均匀现象,严重地影响了它的推广普及。为了改善它的提拉特性,我们研究了FTD浮力提拉原理,对多台FTD作了分析对比,由此找出了提拉不均匀性产生的根源;明确了FTD提拉机构的设计要领。希望这-一卜作能够推动FTD的发展.并有助于单晶的生长研究和生产。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的产生习C^l 奋幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}