全自动高真空离子溅射镀膜仪

KT-Z1650CVD是一款小型台式蒸发功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

控温方式;数字式功率调整器

镀膜功能:0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

大功率:≤800W

大输出电压电流:电压≤10V 电流≤80A

真空度:机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa

挡板类型:电控

样品室:石英腔体φ160mm x 160mm

样品台:可旋转φ62 （大可安装φ50基底）

样品台转速:8转/分钟

样品热源调节距离:70-140mm

蒸发温度调节:≤1600℃

蒸发坩埚容积:3ML

真空法兰:KF25抽气口 KF25扩展口 KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展:1 膜厚在线测试 2 分子泵