AZ1500(20CP)&(4.4CP)化学试剂半导体光刻胶
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储条件
低温
材质
液体
服务
靠谱
工艺
管理体系
成熟
公司保障
实力雄厚
特点
具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度,基本垂 直于衬底表面。
生产地址
国产、美国、瑞士、日本
品名
紫外光刻胶
加工定制
是
功能
耐高温,紫外负性剥离