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因此，在向单晶炉内不断充入 的同时，还用真空泵将混合气体排出炉外；在排气时，混合气体流经 炉中的加热器、坩埚支持器等处，后经过炉下端的排气口排出。上述图1的单晶炉的不足之处在于单晶炉内空间较大，尤其是坩埚 支持器下方的空间较大，导致坩埚支持器下方的混合气体不能及时排出， 热能消耗量较大；另外，现有技术中，从输入管向炉内充入时， 充气气压为1. 3x 103pa，流量为40L/min,因此其消耗量大，生产 成本较高。蓝宝石长晶炉回收，多晶硅铸锭炉回收，提拉式长晶炉回收，多晶长晶炉回收，卧式长晶炉回收，拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,其中用量和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路 ,生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用提拉的办法制成的。在单晶硅生产过程中 ,对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ,从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 ,再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中 ,要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度 V向上 (下 )运动 ,而且当提拉负载增大引起线速度为零时 ,提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。在实际单晶炉中 ,对提拉控制系统提出的主要技术指标是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范围之内实现无级可调 ,线性精度大于± 2 %

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中频电炉设备主要应用领域: 1、机床导轨的淬火处理； 2、煤矿用截齿的焊接；矿山用一字钎头和梅花钎头的焊接； 4、直径30以下螺栓的热变形； 5、直径30以下的螺母的热变形； 6、金属粉末重熔； 7、直径300以下链轮的热处理； 8、直径80以下轴的淬火处理； 9、直径80以下工件的横截面处理； 10、各种手工工具的淬火处理（锤子，斧头，管钳，断线钳）； 11、各种汽车工具的热变形（如套筒扳手）； 12、汽车、托车零部件的局部热处理； 13、各种机械零部件的的局部热处理（需厂家提供图纸及技术要求）。