加速器Downstream等离子体源

在 2.45 GHz 频率下产生的微波具有产生等离子体的特优势。在这个频率下，微波可以有效地与气体的电子共振，从而提高电离效率。此外，2.45 GHz 频率允许使用相对较小的腔体尺寸，这对于紧凑型等离子体源的设计非常有用。 微波等离子体源具有多种应用，包括：

材料处理：微波等离子体源可用于表面处理、薄膜沉积和蚀刻工艺。它们可以帮助在各种材料上沉积薄膜，或改变材料的表面特性。

Sirem微波等离子体源源被设计成立或远程操作、良好的电力稳定性和显著低电力损耗。 详细和交互式的界面使它们易于操作、使用，可以通过RS232、RS485, ETHERNET 或现场总线连接进行模拟控制，如CanOpen、Modbus、Profibus等。