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蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 

对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。

真空蒸镀金属薄膜怎么样?这个问题不能一概而论,要根据您的具体情况进行分析。这里简单介绍一下真空蒸镀金属薄膜的特点,供您参考。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点:(1)大大减少了用铝量,节省了能源和材料,降低了成本,复合用铝箔厚度多为7~9pm,而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右,其耗铝量约为铝箔的1/140~1/180,且生产速度可高达450m/min。(2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针孔和裂口,无揉曲龟裂现象,因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。(3)具有的金属光泽,光反射率达到97%;且可以通过涂料

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