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Futurrex光刻胶NR71/NR9-PY

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00产品优势:

、Futurrex

、负性光刻胶常温下可保存33度烘烤,缩短了烘烤时间

、单次旋涂能够达到100um5微米的膜厚,仅需6~8

半导体

NR71-PY

工艺,高黏附性、,耐高温












用于lift-off

100um

太阳能

<span style=\"\\"margin:\" font-size:=\"\">掺磷材料


























下一条:负性蚀刻抗蚀剂NR7-3000P
厦门良厦贸易有限公司为你提供的“Futurrex光刻胶NR71/NR9-PY”详细介绍
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主营:pti粉尘DMT KSL,日本狮力昂UV膜,KNF GE 美国海诺威,杜克
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美国Futurrex光刻胶信息

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