兰州氧化锆珠回收

稳定性氧化锆
外　　观： 白色粉末
性　　质： 、无味，化学性质稳定，热导率低，耐热冲击性好。
用　　途： 适用于制造各类机械部件、切削工具、、结构陶瓷、电子陶瓷、生物陶瓷、耐火材料、光通讯器件、氧传感器、固体氧燃料电池等。

金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射

可根据用户需要制作。
锆盘管换热器:
规格；标准规格，功率有1.5KW-50KW,
形态；根据加热功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有过热保护装置。
用途；适用于钛无法胜任的酸、碱介质中（氢氟酸除外）。
在聚合物的生产中，锆的应用是代替石墨作热交换器。锆热交换器的成本虽比石墨约高4倍，比钛约高 2倍，但它足以弥补成本费。

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

锆管-锆板-锆带-锆棒-锆丝
牌号：Zr－0、Zr－2、R60702，R60705、Zr－4；
规格： 0.03～50×200～600×Lmm 0.5～100×Lmm；
种类：轧制、锻制、拉制；标准：Q／BS6531－91、GB8769－88、Q／BS6331－91、Q／BS6431－91。

锆作为与氧有亲和力的活泼金属，氧化膜的耐蚀性能决定了其可以胜任多重腐蚀环境。
一、工业纯锆在所有的沸腾的所有浓度盐酸中，腐蚀速率均小于0.025mm/a。
二、在小于70%的硫酸中锆具有的耐蚀性。此外由于不锈钢和镍合金不能在高温、20%的硫酸和40-60%的沸腾温度以下的硫酸范围内使用，故锆在硫酸环境具有无可替代的作用。
三、在200℃以下，不大于90%的硝酸中，锆具有良好的耐蚀性。但应注意锆在硝酸中的应力腐蚀开裂敏感性。
四、锆在所有浓度甚至沸腾的苛性碱溶液中都耐腐蚀。耐蚀性超过了钽、铌、钛。