深圳南山二手PcB显影线回收联系方式

在紫外光照射下，吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应，形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。要使每种干膜聚合效果好，就有一个佳的曝光量。从光能量的定义公式可知，总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变，则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时，由于聚合不，在显影过程中，胶膜溶胀变软，导致线条不清晰甚至膜层脱落，造成膜与铜结合不良；若曝光过度，会造成显影困难，也会在电镀过程中产生起翘剥离，形成渗镀。所以，解决的工艺措施就是严格控制曝光时间，每种类型的干膜在起用时应按工艺要求进行测量。如采用瑞士顿21级光楔表，级差0.15，以控制6-9级为宜。

显影液的浓度、温度和显影时间都是非常重要的。如果浓度太高或温度太高，显影液会过于强烈地溶解光敏胶层，导致电路图案变形或失真。如果浓度太低或温度太低，显影液则无法有效地溶解未曝光的部分，导致电路图案不清晰或不完整。因此，显影液的浓度、温度和显影时间严格控制，以确保 PCB 的质量和稳定性。

日常保养和维护
1、显影液循环、胶液循环、水循环顺畅，无堵塞；

2、定期更换显影液，同时清洗显影机(建议每天清洗一次)；

3、定期更换过滤芯，一般每周更换一次(建议使用100u滤芯)；

4、定期更换保护胶并清洗保护胶系统(建议每天一次)；

5、每天擦洗胶辊(可能干净的软布沾显影液擦冼)；

6、定期清洗胶辊，各胶辊之间压力均匀(每周一次)；

7、定期清洗加热段导轨(每周一次)；

8、整机清洁，表面不残留显影液或其它化学制剂