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蚀刻(etching)又称为光化学蚀刻,是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,可分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两种类型。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。

蚀刻网是通过对金属板材进行蚀刻加工,形成的镂空网。传统的蚀刻加工方法采用的是腐蚀性液体或采用激光雕刻的手段。加工而成的蚀刻网常用于集成电路印刷、荧光屏电子格栅,过滤,微电极元件等。

蚀刻的必要性主要在于它能够通过化学或电化学作用,将金属或其他材料的表面转化为所需要的形状和图案。这种技术不仅能够大大简化产品的制造过程,还可以提高产品的质量和一致性。通过选择合适的蚀刻剂和工艺参数,还能实现对材料表面的保护和加工,使其具有更强的耐腐蚀性、耐磨损性等特性。

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