电子束抗蚀剂AR-N7720系列

特点：

• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等

• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)

• 紫外曝光波段：

 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm

• 化学放大胶，高灵敏度

• 良好的耐干法刻蚀能力

光刻胶（resist）

  
概 述
    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。
  
    德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂