郑科探小型金属镀膜仪

KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
　　小型蒸镀仪郑州科探仪器技术资料
　　控制方式
　　 　　7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
　　
　　加热方式
　　 　　数字式功率调整器
　　
　　镀膜功能
　　 　　0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
　　
　　功率
　　 　　≤1200W
　　
　　输出电压电流
　　 　　电压≤12V 电流≤120A
　　
　　真空度
　　 　　机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
　　
　　挡板类型
　　 　　电控
　　
　　真空腔室
　　 　　石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
　　
　　样品台
　　 　　可旋转φ62 （可安装φ50基底）
　　
　　样品台转速
　　 　　8转/分钟
　　
　　样品蒸发源调节距离
　　 　　70-140mm
　　
　　蒸发温度调节
　　 　　≤1800℃
　　
　　支持蒸发坩埚类型
　　 　　钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
　　
　　预留真空接口
　　 　　KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
　　
　　可选配扩展
　　 　　机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）
　　数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）
　　分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）