铁力氧氯化锆回收

金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

化工反应釜的工作方式：
一般与瑭玻璃钢反应釜配合，作蒸汽加热或水冷却之用。管内大压力根据臂厚不同可承受压力６～２０㎏，换热面积按设计要求制作。
1、程度远比（搪玻璃反应釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜内胆磕碰，掉釉，寿命只有4-12个月）
2、加热或冷却效率比（搪玻璃反应釜）在单位容器，单位时间快6个小时，也就是说如果改用锆盘管换热，两台釜可以出来三台的产量。
3、我公司有丰富的改装，维护，施工经验。
如果有对此产品有兴趣的朋友可以给我电话，一起探讨，用锆材的换热器价格肯定比搪玻璃的贵，比方一套6300L的釜，使用R60702锆材盘管换热器价格大概15W，但是经过我公司改装过的和新上这种设备的客户在使用后，对本产品都是肯定的，贵的值得，贵的有道理，不论是在经济上（假以时日锆换热器还是比搪玻璃经济），还是在生产（产量），维护上（零维护），比使用搪玻璃换热的要好的多