离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。
现场实际运行证明丹佛斯FC302驱动器+MCO305运动控制器的解决方案完够满足真空镀膜机的卷绕控制要求。整机加减速速度超过原来的控制方式,大大减少了原材料的浪费。控制系统调试和参数设置都比较方便。令客户满意的是电机可以采用比较经济的交流异步电机,在张力控制精度要求更高的场合才需要升级使用交流永磁同步电机。由于FC302既能驱动异步电机,又能驱动同步电机,系统升级时只需简单地更换电机即可。