高剪切纳米胶体磨，管线式纳米胶体磨，

高剪切纳米胶体磨，管线式纳米胶体磨，间歇式操作胶体磨，进口胶体磨，混悬制剂胶体磨

以混悬液制备为例：

制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国nei的设备之后，放弃了具有ji度价格优势的国nei设备，来询问低能耗、高转速、经密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)。

上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMSD 2000系列高剪切纳米胶体磨设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

从设备角度分析，影响研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

–  磨头的线速率

–  在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

高剪切纳米胶体磨特点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

同时可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。如果需要的话，也可以更换成胶体磨。

上海依肯机械设备主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一高剪切分散乳化机，二 均质机，三 粉液分散机，四 胶体磨，五 搅拌机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确bao设备运行稳定的可靠性。

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