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离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。

真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水,来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定,所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。

一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用

真空镀膜加工过程中,真空镀膜机作为主要设备,工作过程中有高频电流过程,电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起,需要冷却设备及时地进行冷却,避免设备部件损坏,影响使用寿命;另外,真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节,并保持相对恒温,反复镀膜会造成镀液温度升高,同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中,根据真空镀膜加工的实际需求,选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。

利摘要显示,本申请关于一种真空镀膜自动加料装置,涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架,支架上安装有滑动机构,滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构,驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接;加料机构的上方还安装有储料罐,储料罐将粉料输送至加料机构内,加料机构与外部管式炉的进料口接驳;其中,储料罐上还安装有搅拌机构,搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中,粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺,既满足了蒸发材料的用量,又达到了实时动态调整进料量的目的,提升了镀膜效果,并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

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