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真空度低解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法:更换蒸发舟。 补充: 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了,不好意思。 追问: 不好意思,我没有说你才疏学浅的意思- -#,我意思说就像发黄的原因有:1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3,镀膜时间过长;喷铝过多 4,镀膜电流过高

需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

利摘要显示,本申请关于一种真空镀膜自动加料装置,涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架,支架上安装有滑动机构,滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构,驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接;加料机构的上方还安装有储料罐,储料罐将粉料输送至加料机构内,加料机构与外部管式炉的进料口接驳;其中,储料罐上还安装有搅拌机构,搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中,粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺,既满足了蒸发材料的用量,又达到了实时动态调整进料量的目的,提升了镀膜效果,并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

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