天津超纯水抛光树脂
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半导体抛光树脂是一种用于半导体制造过程中的材料,主要用于抛光半导体晶圆的表面。它能够去除晶圆表面的缺陷、氧化层以及其他污染物,使晶圆表面变得平滑,以提高半导体器件的性能和可靠性。 半导体抛光树脂通常由有机聚合物、磨料和添加剂组成。有机聚合物作为基础材料,能够提供树脂的粘结性和抛光性能;磨料则起到研磨晶圆表面的作用,常见的磨料有二氧化硅、氧化铝等;添加剂则用于调节树脂的黏度、pH值等特性,以及提供一定的抗氧化性能。 在半导体制造过程中,半导体抛光树脂通常通过机械抛光的方式应用于晶圆表面。晶圆被放置在旋转盘上,树脂涂敷在晶圆表面,然后通过旋转盘和抛光垫的摩擦作用,使树脂中的磨料研磨晶圆表面,达到平滑和去除缺陷的效果。 半导体抛光树脂具有良好的抛光性能、稳定的化学性质和可靠的机械性能,可以满足半导体制造过程中对晶圆表面质量的要求。同时,它还能够减少晶圆表面的残留污染物,提高半导体器件的性能和可靠性,因此在半导体制造工艺中得到了广泛应用。
超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率大于18 MΩcm,或接近18.3 MΩcm极限值(25℃)。
超纯水精处理混床树脂系采用国际上的核子级树脂制造工艺,采用高纯试剂经多道严格工序精制而得的一种超纯精制树脂(抛光树脂)。
适合于应用在RO、EDI系统装置中做为终端精制混床,用于电子产品生产、半导体材料制备等行业的超纯水生产,超纯水精制中,如生产磁盘驱动器、显示设备、立的半导体设备、低密集成电路,或者用于后级集成电路的分块和配件操作中,也可用于各种水处理工艺后进行的精处理,含物质的水处理系统等。具有产品纯度高,运行周期长,出水水质稳定,溶出物极低等特点。
当进水水质>16.5MΩ.cm时,出水水质可达18MΩ.cm以上。且TOC含量水于5ppb。
超纯水初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有、病毒、含氯等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水,是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩcm,接近于18.3MΩcm则称为超纯水。