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一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,在半导体材料中用量和用途广的是半导体硅。当今 95 %以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用低速提拉、生长过程均速提拉的办法制成的。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。当今 ,随着 IT产业的迅速发展 ,单晶硅生产市场需求剧,研制一种满足工艺要求、低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。蓝宝石长晶炉回收,多晶硅铸锭炉回收,提拉式长晶炉回收,多晶长晶炉回收,卧式长晶炉回收,拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收,真空泵回收,真空流量计回收,plc编程回收,控制屏回收,离子泵回收,涡轮分子泵回收,螺杆真空泵回收,涡旋高真空泵回收,除尘机理示、扩散当含尘气流中的粉尘颗粒粒径小于1Lm 以下,特别小于0.1Lm 时,这些颗粒在随气流运动时不再沿着气体流线绕流捕集物,因而也再不能遵循惯性碰撞或接触阻留的机理被捕集物所捕集分离,而另一捕集机理——扩散在起作用。由于气体分子之间的热运动而产生的不规则运动,使气体分子之间的热运动而产生的不规则运动,使气体分子轰击着粉尘颗粒而使颗粒作扩散,可以使粉尘颗粒均匀地分布于整个气体空间。真空技术网(认为如果有一物体置于气体之中,一些超微颗粒通过扩散而沉降在这物体的表面上,从而使这些超微颗粒从气体中捕集分离、静电力悬浮在气流中的尘粒,如带有一定的电荷,可以通过静电力使它从气流中分离。由于自然状态下,尘粒的荷电量很小,因此,要得到较好的除尘效果,设置的高压电场,使所有的尘粒都充分荷电。凝聚凝聚作用不是一种直接的除尘机理。通过超声波、蒸汽凝结、加湿等凝聚作用,可以使微小粒子凝聚增大,然后再用一般的除尘方法去除。我们设计除尘器时要根据不同的具体情况,考虑一定的需要,采用某种除尘机理或者是几种除尘机理的综合运用。表1 列出几种除尘机理的除尘情况供为参考。
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无锡宜兴真空泵回收 无锡宜兴单晶炉回收半导体级直拉法的工艺控制\进入21世纪以来,随着新兴产业的科技创新,半导体行业得到了的发展。半导体产业发展迅猛,尤其近几年,大力发展半导体产业,缩短该行业与世界水平的差距。目前虽然有许多新兴材料来替代硅材料,但未来几年可以预见,硅材料由于其成熟的技术品质和稳定的物理化学性质,将会在相当长的一段时间里是主流材料。硅单晶作为主要材料,应用的领域也是相当广泛的。硅单晶是由多晶硅原料经过物理变化,让硅原子按照人为设定的方向进行生长,终形成的。一般会采用直拉法进行制备。晶圆的直径越大,集成电路制造的成本将会越低,因此要求作为材料的硅单晶的直径也要相应的增大。这里面涉及到了一系列问题。这篇论文主要讨论的是通过对热场的设计,工艺的过程控制,减少位错的产生,以及通过化学腐蚀对位错进行检测的相关问题。

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