深圳光明新区真空镀膜机回收厂家报价

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蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。

3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和
高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。

真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,
JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。

发黑通常是由于过早氧化造成的。泛黄一般是因为铝源中含有杂质过多，一般纯度应在4 N或5N以上。无论是涂布机的真空度不达标，都要达到10—7倍Pa。（不准确）。涂敷物品的清洗不，表面残留有清洁剂和水。被涂物品表面温度不合理，温度过高或过低。涂层项目的潜在设置不合理。真空扩散泵油应更换。调节蒸发源的温度，不能太低或太高。如果电子束蒸发，电子束的轰击位置也应该调整。

1）所需设备：CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
　　2) 获得膜层：一层或多层金属，合金或金属化合物膜层
　　3）涂装流程： 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线（如果需要）---包装成品
　　4）基本配置：
　　1.腔体结构：采用的卧式连续磁控镀膜流水线，配备前后粗抽室，前后过渡室，前后精抽室，前后缓冲室，彩镀室。
　　2.腔体材质：碳钢
　　3.靶材设计：采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
　　4.电源配置：配备大功率中频或直流磁控溅射电源
　　5.电气控制：生产线采用PLC全过程控制，配备工业计算机人机交互系统，快速的节拍设计。
　　6.人机对话：控制系统能实现人、机对话，及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示，故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
　　7.传动系统：滚轴传动，变频可调
　　8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断，可以实现有效隔断，稳定工艺气体。
　　10.生产线采用了均匀进气管结构设计，气流注入均匀平缓；
　　11.泵抽系统：扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
　　5）需求配套设施：

现场实际运行证明丹佛斯FC302驱动器+MCO305运动控制器的解决方案完够满足真空镀膜机的卷绕控制要求。整机加减速速度超过原来的控制方式，大大减少了原材料的浪费。控制系统调试和参数设置都比较方便。令客户满意的是电机可以采用比较经济的交流异步电机，在张力控制精度要求更高的场合才需要升级使用交流永磁同步电机。由于FC302既能驱动异步电机，又能驱动同步电机，系统升级时只需简单地更换电机即可。