生产高纯氧化铌旋转溅射靶材NbOx，平面镀膜氧化铌靶材

高纯度氧化铌旋转溅射靶材（NbOx）平面镀膜氧化铌靶材
名称：氧化铌旋转溅射靶 NbOx　　
纯度：99.99%
相对密度：≥95%
工艺：真空等离子热喷涂技术
规格：(max)4000mm
壁厚：3-20mm
公司分别在上海，江苏，南京，苏州，福建，广东深圳，北京等地设有相关厂生产及销售氧化铌靶Nb2O5,NbOx，Si靶等陶瓷平面靶旋转靶产品。
产品说明
名　　称：氧化铌旋转溅射靶 NbOx
品　　牌：Aetoes　
纯　　度：99.99%
相对密度：≥95%
成型工艺：真空等离子热喷涂
规　　格：长度（Max）4000mm
壁　　厚：3-20mm根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工
产品优点：含氧量低，致密度高，纯度保障
产品用途：氧化铌旋转溅射靶由于其特的物理和化学性质而被广泛的应用于现
　　　　　在技术的许多领域，如建筑汽车玻璃、平板显示器、触摸屏、气体传
　　　　　感器和光学薄膜干涉滤波器等行业镀膜，是的真空镀膜材料
产品产地：江苏苏州地区，陶瓷靶材生产厂家。
NbOx target (Niobium Oxide)
Niobium Oxide (Nb2O5, NbOx) Rotatable (Rotary, Cylindrical) Sputtering Target

Manufacturing Range
OD (mm) ID (mm) Length (mm) Custom Made
80 - 160 60 - 125 100 - 4000

Specification
Composition Nb2O5, Nb2Ox
Purity 3N5 (99.95%), 4N (99.99%)
Density 4.3 g/cm3
Grain Sizes < 100 micron or on request
Fabrication Processes Plasma Spraying, Machining
Shape Straight, Dog bone
End Types SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI Ends Fixation, Spiral Groove,
Custom Made for SS Backing Tube
Surface Ra 1.6 micron

Other Specification
✦ Vapor degreased and demagnetized after final machining.
✦ ID to be HONED and OD GROUND after raw tube is produced to ensure ID to OD concentricity meets drawing requirements.
✦ High vacuum tight, leak rate at any location not to exceed 1 x 10-8 STD CC/SEC.
✦ Sealed in plastic, wrapped in foam to protect, and ends capped to protect seal surfaces.