半导体超纯水抛光树脂超纯水核子级抛光

Tulsimer®MB-115是强酸阳离子交换树脂Tulsimer®T-46（H）和

1：1.5体积比的强碱阴离子交换树脂Tulsimer®A-33OH。

Tulsimer® MB- 115 是设计用于获得低电导率水的抛光剂

Tulsimer® MB-115 是制造半导体的电子行业的理想选择

61/5000以及需要超纯水的电视管等。

Tulsimer ®T-46 (阳)

Tulsimer ®A-33 (阴)

型式(Type)

强酸性阳离子交换树脂 (Strong acid Cation exchange resin)

强碱性阴离子交换树脂 (Strong base Anion exchange resin)

主体结构(Matrix Structure)

苯乙烯(Cross linked polystyrene)

苯乙烯(Cross linked polystyrene)

功能基 (Functional Group)

硫酸基(Sulfonic acid)

4级胺(Quaternary ammonium Type I)

PH范围 (pH Range)

0 to 14

0 to 14

允许温度 (Temp. Stability)

120°C

60°C

溶解率 (Solubility)

Insoluble in all common solvents

Insoluble in all common solvents
1、具有交换容量及的物理特性

2、在我们有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂

3、为阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子
抛光树脂回收、抛光树脂进水要求：
抛光树脂通常用于超纯水树脂中，产水质量通常能够达到18兆欧以上，为了产水质量，通常对进水要求也比一般的树脂高一些。一般正常使用的情况下进水中不能含有胶体、油脂、金属离子、有机物等物质，PH值不能超过14，进水温度不能超过树脂的使用温度，压力不得超过0.5Mpa，悬浮物应低于5mg/L。为了达到这些要求，通常会在抛光树脂前面加入石英砂、活性炭、精密过滤器等过滤装置，如果产水要求质量非常高，则需要使用反渗透+EDI膜壳进行处理。大致的工艺流程为原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→反渗透膜→EDI模块→抛光混床树脂→微孔过滤器→用水点。